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首页 > TAG信息列表 > 半导体光刻胶
半导体光刻胶

国际团队提出aZIF薄膜制备新方法,助力半导体光刻胶领域发展

国际合作团队提出间歇性旋涂化学液相沉积制备aZIF薄膜新方法,实现沉积速率和厚度可控,并进行光刻验证。A股市场布局半导体光刻胶业务公司众多,形成完整产业生态,技术不断进步,发展前景广阔。
2025-09-27
市场资讯
4110 2025-09-27
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2025-11-11
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