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首页 > TAG信息列表 > 第三代半导体
第三代半导体

光刻机概念活跃 国创中心氮化镓技术获突破

光刻机概念盘中活跃,国创中心在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破性进展,首次研制高质量外延结构,解决可靠性问题,为氮化镓混合晶体管发展奠定基础。
2025-08-13
证券研报
2753 2025-08-13
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2026-05-13
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